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‌电铸标牌复合材料的沉积技术

作者:admin时间:2025-05-06 20:39:01 次浏览

信息摘要:

复合电铸技术通过向电解液中添加微粒(如碳化硅、金刚石、PTFE等)实现功能性镀层。某航天器标牌项目要求同时具备导电与耐磨特性,最终采用镍-碳化硅复合材料(碳化硅含量15vo

  

复合电铸技术通过向电解液中添加微粒(如碳化硅、金刚石、PTFE等)实现功能性镀层。某航天器标牌项目要求同时具备导电与耐磨特性,最终采用镍-碳化硅复合材料(碳化硅含量15vol%),其洛氏硬度达到HRC 55,较纯镍层提升120%。关键工艺参数:

  • 微粒粒径:0.5-3μm(过筛精度达98%)
  • 电解液搅拌速率:1200r/min(确保微粒均匀悬浮)
  • 脉冲电流参数:正向10ms/反向2ms,电流密度4A/dm²

实测数据对比:

性能指标 纯镍层 镍-碳化硅层
磨损率(mm³/N·m) 8.7×10⁻⁶ 2.1×10⁻⁶
接触电阻(Ω·cm²) 0.015 0.018
热导率(W/m·K) 90 165

某半导体设备制造商采用该技术后,真空腔室标识在高能粒子轰击环境中的使用寿命延长至18000小时,维护周期从3个月延长至1年。前沿研究方向:石墨烯增强镍基复合镀层可将电磁屏蔽效能提升至120dB(常规材料≤80dB)。

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